(1) 光陷阱结构 :一般高效单晶硅电池采用化学腐蚀制绒技术,制得绒面的反射率可达到10%以下。目前较为先进的制绒技术是反应等离子蚀刻技术(RIE),该技术的优点是和晶硅的晶向无关,适用于较薄的硅片,通常使用SF6/O2混合气体,在蚀刻过程中,F自由基对硅进行化学蚀刻形成可挥发的...  [详内文]
提高晶硅太阳能电池转换效率的方法 |
作者 | 发布日期: 2018 年 05 月 15 日 17:48 | 分类: 行业知识 |